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研发流片服务

驰拓科技拥有国内唯一、国际上居于先进水平的28nm 12英寸后段工艺线,具备从技术研发到产品小规模量产的全套能力,可为客户提供全方位的流片及工艺开发服务,包括:

1. 无图案的介质薄膜沉积:如TEOS,SiN,LTO等;

2. 无图案的金属薄膜沉积:如Ta/TaN,Ti/TiN,Al,Cu,Co,CoFe,Ru等;

3. 光刻材料涂布:如光刻胶、BARC、SOC等;

4. 无图案的结构片加工:根据合作伙伴需求,提供多层膜的结构片加工及在线工艺检测服务;

5. 图案化的结构片加工:根据客户需求,提供包含28纳米技术节点以上的图案设计、光罩设计、图案化加工及在线工艺检测等多种服务和支持。


服务支持电话:18305815568

Email:sales@hikstor.com